挂镀工艺:晶圆固定在挂具上,浸入电镀液,通过精细控制电流、电压及溶液成分,在表面沉积均匀金属层。
电镀槽:耐腐蚀材质,配备温控、循环过滤系统,维持镀液均匀性
挂具与阳极:钛或铂金阳极,挂具设计适配晶圆尺寸,确保电场分布均匀
自动化传输:机械臂自动上下料,减少人工污染风险
控制系统:PLC/计算机实时调控电流密度、电镀时间、pH值等参数
高均匀性:通过脉冲电镀或水平电镀技术(如ECP),减少边缘效应,实现亚微米级镀层均匀性
低缺陷率:镀液杂质控制(<0.1ppm)与膜厚在线监测,降低孔洞、结节等缺陷
高产能:支持多晶圆并行处理
铜互连:在逻辑芯片中沉积多层铜导线,替代传统铝工艺以降低电阻
TSV填充:为3D封装提供垂直导电通道,实现芯片堆叠
凸块电镀:在晶圆表面形成锡、铜柱凸块,用于Flip-Chip键合
RDL(重布线层):沉积铜层实现芯片I/O端口的重新布局
半导体挂镀设备通过精密电化学控制与自动化技术,解决了纳米级金属沉积的均匀性与可靠性难题,是先进芯片制造与封装的装备。其性能直接关联芯片的导电性、散热及良率 前处理电镀设备含除油、酸洗槽,除工件表面油污氧化皮,为镀层结合奠定基础。加工电镀设备是什么
双筒过滤机特点:一机具备多功能用途,可依据客户使用条件,更换不同滤材。主滤筒采用耐腐蚀的PP/FRPP/PVDF一体注塑成型,耐酸碱腐蚀、防泄漏,且提供多种滤芯规格,可按精度需求选择,满足多元化应用。整机安装与操作简便,清洗便捷高效,占地面积小。支持根据客户不同需求,选择滤筒材质。适用领域,包括电镀、氧化、表面处理等多种工艺环节。分享不同材质的滤芯在电镀设备中的过滤效果有何差异?双筒过滤机的价格区间是多少?滤芯式过滤机在电镀行业中的市场占比是多少?手动电镀设备产业过滤循环设备通过精密滤芯净化电解液,去除金属颗粒等杂质,保障镀液清洁与工艺稳定。
离心风机:风压高、风量较大,适用于需要克服较大阻力
轴流风机:具有风量大、风压低的特点。适合在对通风量需求大、阻力较小的环境
屋顶风机:安装于电镀车间屋顶,可直接将车间内废气排至室外。其优点是不占室内空间,安装简便
防爆风机:针对电镀废气含易燃易爆气体(如有机溶剂挥发气)的情况设计,采用特殊防爆结构与材料,防止运行中产生电火花引发炸掉,保障生产安全
玻璃钢风机:处理电镀过程中产生的强腐蚀性酸碱废气,且质量较轻、强度较高、使用寿命长
不锈钢风机:用于对耐腐蚀有一定要求且废气中颗粒物磨损性较强的电镀废气抽取
防腐涂层或特殊防腐工艺处理的普通金属风机:抽风设备搭配集气罩、通风管道等部件,组成完整的抽风系统,将电镀废气高效收集并输送至后续处理设备,如酸雾净化塔、活性炭吸附装置等。
自动线线外连接抽风系统
PP抽风管连接,抽风连接口采用方形变通连接室外抽风系统
可根据不同种类废气和不同排放量以及现场情形适当设计制,并负责安装调试,抽风效果好
适用于氧化、电镀、涂装、印刷等行业多种碱性、有毒气体抽排(退挂、除锈等)
提供稳定直流电,通常采用高频开关电源或硅整流器,电压范围0-24V,电流可调至数千安培,满足不同镀种需求。
耐腐蚀材质槽体(如PP/CPVC/PVDF),尺寸设计依据生产需求,典型容积0.5-10m³,配置防渗漏双层结构。
阳极组件:可溶性金属(如镍板)或不溶性阳极(钛篮+金属球),配置阳极袋防止杂质扩散
阴极挂具:定制化设计,确保工件均匀受镀,接触电阻<0.1Ω
温控精度±1℃,流量控制误差<5%
在线pH监测(±0.1精度)
安培小时计控制镀层厚度
类型 适用场景 产能(㎡/h) 厚度均匀性 典型配置
挂镀线 精密零部件 0.5-2 ±5% 多工位龙门架,PLC控制 滚镀系统 小件批量处理 3-8 ±15% 六角滚筒,变频驱动 连续电镀线 带材/线材 10-30 ±8% 张力控制+多槽串联 选择性电镀 局部强化 0.1-0.5 ±3% 数控喷射装置,微区控制 悬挂传输设备以链条或龙门架为载体,实现工件在各槽体间自动转移,减少人工干预并提高生产节奏。
集气罩:根据前处理设备形状、废气散发特点定制,如槽边侧向集气罩等,可高效收集废气,常见材质有 PP 等耐腐蚀材料 。
通风管道:多选用耐腐蚀的 PP 材质,用于连接抽风设备各部件,将废气输送至处理设备,其设计需考虑废气流量、阻力等因素 。
引风机:常安装在输送通道出风口处,为废气的抽取和输送提供动力 ,可根据实际需求选择不同规格和性能的引风机。
此外,一些抽风装置还可能配备过滤处理箱、活性炭吸附网板等,用于对废气进行初步过滤、吸附,减少大颗粒杂质等对风机的损害 。 后处理电镀设备包含钝化槽与干燥箱,前者增强镀层耐腐蚀性,后者快速去除水分防止白斑。新能源电镀设备生产线
贵金属电镀设备配备高精度电源与净化系统,严格控制金、银镀层纯度,满足珠宝及电子芯片的高要求。加工电镀设备是什么
对比项 传统滚镀 半导体滚镀 对象 小型金属零件(螺丝、纽扣等) 晶圆、芯片、微型半导体元件 精度 微米级 纳米级(≤100nm) 洁净度 普通工业环境 无尘室(Class100~1000) 工艺控制 电流/时间粗调 实时闭环控制(电流、流量、温度) 镀液类型 酸性/碱性镀液 高纯度镀液(低杂质)
大尺寸晶圆兼容:适配12英寸(300mm)晶圆,向18英寸过渡。环保镀液:无物、低毒配方,减少废水处理压力。智能化集成:AI工艺优化:通过机器学习预测镀层缺陷。与CMP(化学机械抛光)、PVD设备联动,形成全自动金属化产线
半导体滚镀设备是封装与芯片制造的关键装备,通过精密旋转与镀液控制,实现纳米级金属镀层的均匀沉积。其技术在于洁净环境下的高精度工艺控制 加工电镀设备是什么
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